様々な分野での産業応用についての研究開発が進められている光ナノインプリントの原理とその背景となる物理化学について解説し、さらに実際のプロセス、材料、最近の応用事例、動向を紹介する！

◆セミナー名：

光ナノインプリントの物理化学と材料・プロセスおよび応用

≪1名分料金で2人目無料≫

詳細・申込はＨＰから

◆セミナー概要：

【セミナー番号】 100608

【講師】ＨＰをご覧ください。

【会場】大阪ドーンセンター　4F　中会議室3（大阪・天満橋）

【日時】平成22年6月10日(木)　10：30～16：30

【定員】30名
　　※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

【聴講料】 1名につき49,980円（税込、資料付き）
　　※2名同時にお申込いただいた場合、2人目は無料でご参加いただけます。
　　※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
　　（ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。また、2人目無料は適用外です。）

◆講座の内容：

【講座の趣旨】

　光ナノインプリント法は、簡便で効率的なナノ加工技術として、様々な分野での産業応用についての研究開発が進められている。しかし、そこに介在するプロセスの物理化学は熱ナノインプリントに比べて複雑で多岐に渡っている。ここでは、光ナノインプリントの原理とその背景となる物理化学について解説する。さらに実際のプロセス、材料、最近の応用事例、動向について紹介する。

【プログラム】

１．光ナノインプリントとは
　　1.1 光ナノイプリントと熱ナノインプリント
　　1.2 光ナノインプリントプロセス

２．光ナノインプリントの物理化学
　　2.1 レジスト充填プロセス
　　　　2.1.1 レジスト充填方法
　　　　2.1.2 レジスト充填の物理とシミュレーション
　　　　2.1.3 バブル発生の要因と解決手法
　　　　2.1.4 残膜の均一性とパターン密度
　　2.2 UV照射プロセス
　　　　2.2.1 UV照射の実際
　　　　2.2.2 レジスト中での照射強度分布シミュレーション
　　　　2.2.3 光の回折の影響とプロセス，材料
　　　　2.2.4 光の干渉の影響とプロセス
　　2.3 UV硬化プロセス
　　　　2.3.1 UV硬化レジストの物理化学
　　　　2.3.2 UV硬化レジストの化学
　　　　2.3.3 UV硬化レジストの物理
　　　　2.3.4 UV硬化レジストの特性評価とシミュレーション
　　2.4 離型とレジストの硬化収縮
　　　　2.4.1 離型プロセスと表面処理
　　　　2.4.2 硬化収縮の力学的影響予測とシミュレーション
　　　　2.4.3 硬化収縮によるモールドとの接触力
　　　　2.4.4 硬化収縮による寸法精度への影響

３．光ナノインプリント材料
　　3.1 レジスト材料と求められる性能・特性
　　　　3.1.1 硬化の物理化学特性と感度
　　　　3.1.2 離型特性と密着性
　　3.2 モールド材料
　　　　3.2.1 石英材料
　　　　3.2.2 樹脂材料

４．光ナノインプリントの応用プロセス
　　4.1 ハイブリドナノインプリントによるマイクロ・ナノ混在構造作製
　　4.2 樹脂モールドによる光ナノインプリントプロセスと材料
　　4.3 リバーサル光ナノインプリントによる積層三次元構造作製
　　4.4 LSIプロセスと光ナノインプリント
　　4.5 ロールtoロールプロセス

５．光ナノインプリントの応用
　　5.1 光学要素への応用
　　5.2 パターンドメディアへの応用
　　5.3 エコロジーデバイスへの応用
　　5.4 バイオデバイスへの応用

６．最近の動向と今後の展望

（質疑応答・名刺交換）