高分子フィルムに対するプラズマ処理の特徴、プラズマを用いた選択的官能基形成技術の現状・考え方、プラズマ処理表面に用いられる表面処理技術、プラズマ処理を用いた接着性向上解説する！

◆セミナー名：

高分子のプラズマ処理・評価と接着性向上

≪1名分料金で2人目無料≫

詳細・申込はＨＰから

◆セミナー概要：

【セミナー番号】100309

【講師】ＨＰをご覧ください。

【会場】ＴＩＭＥ24ビル　2F　Ｂ会議室（東京・江東区）

【日時】平成22年3月25日(木)　10：30～16：30

【定員】20名
　　※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

【聴講料】1名につき49,980円（税込、資料付き）　
　　※2名同時にお申込いただいた場合、2人目は無料でご参加いただけます。
　　※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
　　（ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。）

◆講座の内容：

【講座趣旨】

・高分子フィルムに対するプラズマ処理の特徴
・プラズマを用いた選択的官能基形成技術の現状・考え方
・プラズマ処理表面に用いられる表面処理技術
・プラズマ処理を用いた接着性向上

【プログラム】

１．プラズマ処理とはどのようなものか？
　　１．１　プラズマ処理技術の位置付け
　　１．２　ドライ表面処理を行なった高分子の特性
　　１．３　高分子表面の構造

２．高分子プラズマ処理の一般的な特性
　　２．１　ナノサイズ加工技術としてのプラズマ処理
　　２．２　選択ガスによる表面処理効果の違い
　　２．３　エッチングとインプランテーションの同時進行
　　２．４　リモートプラズマの重要性

３．大気圧プラズマ処理
　　３．１　大気圧グロー放電プラズマについて
　　３．２　ヘリウム以外のガスを用いた大気圧プラズマ処理
　　３．３　コロナ放電処理との違い

４．プラズマ処理表面の観察手法
　　４．１　表面観察手法の概要
　　４．２　XPS(ESCA)分析
　　４．３　ATR-FTIR分析
　　４．４　和周波分光(SFG)
　　４．５　走査プローブ顕微鏡
　　４．６　SIMS分析

５．選択的官能基形成技術
　　５．１　選択的官能基形成とはどういうことか
　　５．２　選択的官能基形成の課題
　　５．３　OH基修飾の試み
　　５．４　COOH基修飾の試み
　　５．５　NH2基修飾の試み
　　５．６　Br基修飾の試み

６．プラズマ処理接着技術
　　６．１　プラズマ処理による接着の例
　　６．２　表面官能基起因による接着機構
　　６．３　表面官能基によらない接着機構
　　６．４　接着剤との比較

（質疑応答）